法柯特科技立足金屬靶材市場
2016年04月30日 17:18 6066次瀏覽 來源： 中國有色網(wǎng) 分類： 地質礦業(yè)
近年來，隨著電鍍和化學鍍等傳統(tǒng)表面改性技術的局限性日益突出，以物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）為主要工藝方法的真空鍍膜技術取得了突飛猛進的發(fā)展，其中PVD制備過程所需要的濺射靶材市場需求量日趨旺盛。據(jù)統(tǒng)計，全球范圍內靶材的市場需求量每年以20%的速度增長，中國作為全球制造業(yè)大國，其靶材的市場需求量更是每年以超過30%的速度增長。若不計貴金屬靶材，保守估計目前每年各領域所需要的靶材總量價值約100億元人民幣。
法柯特科技（江蘇）有限公司從事專業(yè)的靶材研發(fā)、制造商。也是同行業(yè)技術領先者之一，擁有先進的生產(chǎn)設備與生產(chǎn)工藝，靶材具有純度更純、密度更高、氧/氮/碳/硫含量可控等核心技術優(yōu)勢。主要產(chǎn)品有：硅旋轉靶、硅鋁旋轉靶、氧化鈮旋轉靶、各類金屬旋轉靶及大面積平面靶， 產(chǎn)品廣泛用于平板顯示器、觸摸屏、汽車玻璃鍍膜、建筑節(jié)能玻璃鍍膜、太陽能光伏、電子半導體等行業(yè)。
法柯特深入掌握先進的鍍膜技術和濺射技術。PVD是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。是由汽化形成所需的膜材料（在濺射靶）凝結到基板（玻璃板，薄膜太陽能電池等）。該涂層技術包括純粹的物理過程，冷凝或等離子濺射轟擊高溫真空蒸發(fā)，而不涉及化學反應在表面化學氣相沉積。工作時，濺射沉積，輝光等離子體放電（局部目標周圍的磁場）轟擊材料濺射作為基板上的隨后的沉積相。在真空環(huán)境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據(jù)使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
責任編輯：陳鑫
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