我國攻關(guān)半導(dǎo)體稀土拋光液
2010年07月09日 10:17 6146次瀏覽 來源： 中國有色網(wǎng) 分類： 新技術(shù)
記者7月4日從包頭市科技局了解到，包頭稀土研究院日前與包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司簽訂了氧化鈰新型半導(dǎo)體拋光液科研項(xiàng)目合作開發(fā)協(xié)議，標(biāo)志著我國在化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域邁出關(guān)鍵步伐。
據(jù)介紹，該項(xiàng)目以半導(dǎo)體芯片制程中的氧化硅絕緣層為拋光對象，開展氧化鈰基稀土拋光液的研究工作，主要研究目標(biāo)是制備出滿足集成電路芯片拋光要求的氧化鈰基拋光液，此拋光液的制備需突破以下三項(xiàng)技術(shù)：磨料制造技術(shù)、磨料分散技術(shù)和拋光液配方技術(shù)。
據(jù)了解，目前我國集成電路生產(chǎn)所采用的拋光液全部為進(jìn)口，國內(nèi)幾乎沒有生產(chǎn)。進(jìn)口拋光液在國內(nèi)的售價(jià)非常昂貴，增加了芯片的生產(chǎn)成本。該項(xiàng)目擬開發(fā)的稀土拋光液可以取代部分國外產(chǎn)品，降低市場價(jià)格，進(jìn)而降低芯片的制造成本，提高我國半導(dǎo)體制造行業(yè)的競爭力。
化學(xué)機(jī)械拋光是超大規(guī)模集成電路制造過程中的一種新技術(shù)，近年來隨著超精密光學(xué)元件等新領(lǐng)域的開發(fā)，對高純度和超細(xì)稀土二氧化鈰拋光粉料的要求逐漸提高，其用量也在迅速增加。
責(zé)任編輯：仁可
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